UV-AOP (Ultraviolet-Advanced Oxidation Process) UV-고도산화처리

- UV와 산화제가 반응하여 생성된 하이드록실 라디칼을 통해 난분해성 유기물 및 미량오염물질을 제거하는 공정
- 평상시 UV 조사로 인한 물 속 미생물 살균(염소소독으로 처리가 어려운 Cryptosporidium등이 처리)
- 오염물질 발생 시 AOP 공정으로 전환, 산화제 투입으로 인한 물 속 유기물 제거
- 소독 및 AOP (Advanced Oxidation Process)의 복합운영을 통한 운영비 절감
- 이취미 유발 물질 제서
- 산업 폐기물의 유기 오염을 제거
- 재 이용수를 이용하여 음용수를 생산하는 DPR 공정에도 적용 가능

AOP (Advanced Oxidation Process) 원리

과산화수소의 광분해 단계

1. 물에 용해된 과산화수소
2. 광자를 흡수하는 과산화수소 분자
3. 매우 높은 에너지와 반응성의 하이드록실 라디칼 형성

물기잔류물질로 완전분해 단계

4. 오염물질을 공격하는 하이드록실 라디칼
5. 동시에 발생하는 광분해
6. 오염물질을 분해시키는 하이드록실 라디칼
* 반응의 완결 : 이산화탄소, 물로 전환된 오염물질

Type of Taste and Odor Problems

고도정수처리 기술 비교표

주1)“O” 많을수록 제거 능 높음
주2)“$” 적을수록 저렴함

CFD Modeling

저압UV-AOP

저압 UV AOP system

- 전력 효율이 높고 수명이 긴 UV SolaRay 기술 적용으로 인한 유지비용 감소
- 254nm의 단일 파장 UV 조사를 통한 소독 및 산화 효율 극대화
- 모듈형식으로 용량증설이 용이
- CFD-RED 해석 및 장시간 현장 시험에 의해 검증된 성능
- 유량 및 수질 변화에 따른 자동제어 알고리즘 탑재(Option)
- 자동세척시스템이 적용되어 안정적인 성능 유지(Option : 기계화학세척장치)
- 이취미 물질(2-MIB, Geosmin) 및 난분해성 유기물질 제거

Standard Specification

System Layout

중압UV-AOP

중압 UV AOP

- 강력한 출력의 MP UV 적용을 통한 반응기내 램프 수 최소화
- 반응기 / 램프 수가 적어 유지관리 용이
- LP UV system 대비 부지 면적 약 70% 절감
- Flange 타입에 의한 추가 증설 및 설치 용이
- CFD-RED 해석 및 장시간 현장 시험에 의해 검증된 성능
- 유량 및 수질 변화에 따른 자동제어 알고리즘 탑재(Option)
- 저압 자외선 램프보다 월등한 자외선 강도 및 넓은 파장대의 자외선 조사
- LP UV system 대비 낮은 초기 투자비용
- 자동세척 시스템 적용을 통한 안정적인 성능 유지 (Option : 기계화학세척장치)
- CFD 해석을 통한 Baffle 설치로 반응기내 유동 안정화
- 뛰어난 맛냄새 물질(2-MIB, Geosmin) 및 난분해성 유기물질 제거 성능

Standard Specification

System Layout

Gallery